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纳米抛光材料

  • 发布日期:2014-03-12
  • 有效期至:长期有效
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                      纳米抛光材料

纳米抛光材料的特性:

随着现金电子产品,如集成电路,计算机硬盘,数字光盘,光通讯元件等性能的日益提高,许多部件表面要求达到超光滑。化学机械抛光(CMP)是目前广泛应用的全局平面化技术。纳米抛光材料(纳米磨粒)主要用于CMP过程,是化学机械抛光技术中关键的要素,其性能直接影响抛光后材料的表面质量。近年来,随着纳米材料制备技术的发展,纳米材料应用于化学机械抛光的研究迅速发展。

纳米级的抛光材料与传统的抛光材料相比,具有以下特性:

(1) 抛光后表面质量好,缺陷少。

(2) 亚纳米级的超精抛光是在原子量级进行的,纳米磨粒通过对被抛光工件表面原子的碰撞、摩擦、扩散、填充等,达到原子的去除,磨粒的粒度较小(纳米级)利于获得较低的表面粗糙度、较低的表面波纹度、较高的表面平整度以及较小的表面缺陷。传统大粒子(如微米或者亚微米级)磨粒会引起过度的摩擦及碰撞,导致表面不平度较大和严重的表面损伤。

(3) 抛光液稳定性好

(4) 粒子越小,粒子的布朗运动越强烈,越能阻止粒子因重力而引起的下沉,分散体系的稳定性就约好。因而纳米材料制成的抛光液沉降稳定性大大优于传统的悬浮液。

纳米抛光材料的种类与性能

纳米抛光材料的种类和性能

常用的抛光材料主要有金刚石,氧化铝,氧化硅,氧化铈,氧化钛,氮化硅,氧化铁等。

纳米氧化硅,纳米氧化铝是一种广泛采用的纳米抛光材料,具体详询苏州优锆纳米材料有限公司得到专业的解答。

纳米抛光材料的应用

化学机械抛光已成为众多高新技术,如大规模集成电路、平面显示及超高精度机械加工中不可缺少的工业化生产过程,而且这一技术与许多相关技术结合,将在未来高技术产业中发挥越来越大的作用。随着对表面质量要求的日益提高,纳米抛光材料面临广阔的发展机遇。目前,纳米抛光材料主要应用于集成电路,计算机,光学玻璃等制造中,正进一步拓展应用到晶体,精密阀门、导电玻璃、机械磨具、陶瓷、金属材料、微电极系统(MEMS)、宝石、平面显示器以及广岛摄像机等表面高精加工中。

 
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